我公司是专业从事真空设备的研究、设计、制造和服务为一体的股份制科技企业，也是国内一家专业生产磁控源的公司，本公司生产的靶材高利用率系列磁控源，靶材利用率少在40％以上，大大节省了靶材费用，延长靶材更换周期。 本公司拥有一支精干的技术骨干队伍，目前公司产品在设备方面主要有磁控溅射电阻镀膜设备系列、对靶磁控溅射镀膜设备、链锁磁控溅射镀膜设备、多弧镀膜机、装饰镀膜机、光学膜镀膜机、真空炉系列等；在真空获得方面有扩散泵系列、阀门系列；磁控源方面有靶材高利用率磁控源系列、可调型磁控源系列、平衡型磁控源系列、非平衡型磁控源系列；电源方面有高频逆变直流电源、脉冲电源以及其他溅射电源，同时，我公司拥有镀膜设备，可为棒状、片状以及其他各种形状的基体进行电阻膜、超硬膜等膜层的加工。 公司本着“质量＝生命、信誉＝发展、质量＋信誉＝成功”的原则，竭诚为客户服务。 我们的目标：产品，价格有竞争力！ 公司拥有专利技术——滚落式双阴极平面磁控溅射金属膜电阻镀膜装置。 专利号：ZL200420030417.4